方矩管鍍鋅過程中，我們應(yīng)該注意以下五點事項：
（一）轉(zhuǎn)化硫酸鹽鍍鋅
硫酸鹽電鍍鋅鐵合金只保留硫酸鹽鍍鋅的主鹽硫酸鋅，其余組分如硫酸鋁、明礬等可在鍍液處理時，加入氫氧化鈉使之生成不溶性氫氧化物沉淀去除。對有機添加劑，則加入粉狀活性炭吸咐去除。硫酸鋁與硫酸鋁鉀一次性難以徹底去除，對方矩管鍍層光亮度有影響，但并不嚴重。溶液通過處理，可按新工藝所需成分含量補加，即完成轉(zhuǎn)化。
（二）清洗工藝
方矩管鍍鋅工藝采用硫酸鹽電鍍鋅鐵合金工藝，在于生產(chǎn)線槽與槽間均穿孔直通而溶液無任何帶出或溢流。生產(chǎn)過程各工序由循環(huán)系統(tǒng)組成，各槽溶液即酸堿液、電鍍液、出光與鈍化液等，只循環(huán)回用不向系統(tǒng)外滲漏或排放，生產(chǎn)線只設(shè)多個清洗槽，采用循環(huán)回用定期排放，特別是鈍化后不清洗的無廢水產(chǎn)生的生產(chǎn)工藝。
（三）優(yōu)化硫酸鹽鍍
硫酸鹽鍍鋅最大優(yōu)點是電流效率高達100% ，沉積速率快，這是其他鍍鋅工藝無可比擬的。硫酸鹽電鍍鋅鐵合金工藝對傳統(tǒng)的硫酸鹽鍍鋅工藝進行優(yōu)化，只保留了主鹽硫酸鋅，其余組分均舍棄。工藝的重組，不僅發(fā)揚了原工藝電流效率高、沉積速率快的優(yōu)點，還使分散能力與深鍍能力得到很大改善。用于方矩管的連續(xù)電鍍，鍍層晶粒比原來的更細化、更光亮，沉積速率快。
（四）鍍鋅設(shè)備
管鍍鋅槽設(shè)備較為復(fù)雜，槽體由上、下兩部分組成，上部為鍍槽，下部為溶液循環(huán)儲存槽，形成一個上窄下寬狀、似梯形的槽體。在鍍槽中設(shè)有鍍鋅管電鍍運行的通道，槽底有兩個通孔與下部的儲存槽相通，并與液下泵形成鍍液循環(huán)復(fù)用系統(tǒng)。因此方矩管鍍鋅是動態(tài)的，而鍍液也是動態(tài)的。
（五）沉積速率快
硫酸鹽電鍍鋅鐵合金工藝電流效率高達100%，沉積速率快是任何鍍鋅工藝無可比擬的，這是連續(xù)鍍鋅難于達到的。同時，加工后的方矩管鍍層更加光亮細致。
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